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後藤 健

職位

助教

所属

工学研究院 応用化学部門
グローバルイノベーション研究院 エネルギー分野・熊谷ユニット

Researcher ID

F-4575-2019

0000-0002-3371-0020

Email

gotoken(at)go.tuat.ac.jp

URL

http://web.tuat.ac.jp/~kumagai/

Professional Career

経歴

2004年04月~2006年02月:三菱電機株式会社電力事業部
2009年04月~2010年05月:筑波大学大学院数理物質科学研究科博士研究員
2010年06月~2019年02月:株式会社タムラ製作所コアテクノロジー本部
2019年03月~現在:東京農工大学 応用化学部門 助教

Academic Degrees

学位

2009年03月 博士(理学)筑波大学

Research Interests

キーワード

半導体量子構造, 半導体電気物性, 窒化物半導体エピ成長, 酸化物半導体エピ成長, ワイドバンドギャップ半導体, 近赤外・可視光・深紫外, 半導体光物性

Publications

論文

  • Kumagai, Y., Goto, K., Nagashima, T., Yamamoto, R., Boćkowski, M., Kotani, J., Influence of growth rate on homoepitaxial growth of AlN at 1450 °C by hydride vapor phase epitaxy. Applied Physics Express (Appl. Phys. Express) 15: 115501 1-4, 2022

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